| 发明名称 | 与碳纳米结构的光蚀刻划定的接触 | ||
| 摘要 | 本发明描述了制造纳米结构、包括由碳纳米管构成的纳米结构的方法，和通过这些方法制备的纳米结构、器件和组件。 | ||
| 申请公布号 | CN102449748A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201080020748.8 | 申请日期 | 2010.05.07 |
| 申请人 | 宾夕法尼亚大学理事会 | 发明人 | 阿兰·T·小约翰松;莱恩·A·琼斯;塞缪尔·M·卡米斯 |
| 分类号 | H01L21/36(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 张颖;樊卫民 |
| 主权项 | 制备纳米结构的方法，包括：(a)提供其上叠放至少一个纳米维度器件的衬底；(b)将所述纳米维度器件的至少一部分用与所述纳米维度器件基本没有相互作用的至少一层钝化材料涂覆；和(c)用至少一种光致抗蚀剂涂覆所述钝化材料的至少一部分。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||