发明名称 |
提高附体动态随机存储单元写入速度的侧墙刻蚀方法 |
摘要 |
本发明提高附体动态随机存储单元写入速度的侧墙刻蚀方法在侧墙(Spacer)刻蚀工艺中,采取斜角引入刻蚀等离子体的方法,使得刻蚀后漏端的侧墙宽度减小,而源端的侧墙宽度增大,在接下来的源漏高掺杂注入和退火工艺后,漏端的掺杂离子离沟道距离被拉近,源端的掺杂离子与沟道和衬底的距离被拉远,一方面提高了漏端沟道中的纵向电场,增大了衬底电流,另一方面降低了积聚载流子从源端的泄漏速度,从而提高了浮体效应存储单元的写入速度。 |
申请公布号 |
CN102446750A |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN201110265282.4 |
申请日期 |
2011.09.08 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
俞柳江 |
分类号 |
H01L21/311(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/311(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种提高附体动态随机存储单元写入速度的侧墙刻蚀方法,在SOI硅基板上形成有至少一晶体管,在晶体管上淀积一侧墙层;其特征在于,包括以下步骤: 刻蚀去除部分侧墙层,仅保留覆盖在第一晶体管的栅极侧壁的部分侧墙层作为栅极侧壁层,刻蚀过程中使等离子体的方向与垂直硅片表面方向成α夹角,以使得刻蚀之后栅极两侧的侧墙厚度不同,之后,进行漏源掺杂工艺。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |