| 摘要 |
<p>Substrat transparent (1) pour dispositif photoniques comprenant un support (10) et une électrode (11), ladite électrode (11) comprenant un empilement comprenant une seule couche métallique de conduction (112) et au moins un revêtement (110) doté de propriétés d'amélioration de la transmission de lumière à travers ladite électrode, ledit revêtement (110) ayant une épaisseur géométrique au moins supérieure à 3 nm et au plus inférieure ou égale à 200 nm, ledit revêtement (110) comprenant au moins une couche d'amélioration de la transmission de lumière (1101) et étant situé entre la couche métallique de conduction (112) et le support (10) sur lequel ladite élecrtode (11) est déposée, tel que l'épaisseur optique du revêtement doté de propriétés d'amélioration de la transmission de la lumière (110), TD1, et l'épaisseur géométrique de la couche métallique de conduction (112), TME, sont reliées par la relation: TME = TME 0 + B* sin(N* TD1/TD1 0)/n3support...</p> |
