发明名称 Substratverarbeitungssystem, Substratverarbeitungsverfahren, Aufzeichnungsmedium und Software
摘要 <p>Substratverarbeitungssystem mit: einem Verarbeitungstank (3) zum Verarbeiten von Substraten mit einer Verarbeitungsflüssigkeit; einer Trocknungseinheit (6), die oberhalb des Verarbeitungstanks (3) angeordnet ist; einem Transportmechanismus (8) zum Transportieren der Substrate zwischen dem Verarbeitungstank (3) und der Trocknungseinheit (6); einer Verarbeitungsgaszuführleitung (21) zum Zuführen eines Verarbeitungsgases in die Trocknungseinheit (6); einer Inertgaszuführleitung (25) zum Zuführen eines Inertgases in die Trocknungseinheit (6); einer ersten Auslassleitung (26) zum Auslassen einer Atmosphäre, die von der Trocknungseinheit (6) ausgelassen wird; und einer zweiten Auslassleitung (27), die von der ersten Auslassleitung abzweigt, zum zwangsweisen Auslassen der Trocknungseinheit (6), wobei die Trocknungseinheit (6) derart ausgebildet ist, dass die Trocknungseinheit (6) in einer offenen Stellung angeordnet werden kann, in der die Trocknungseinheit (6) zur äußeren Atmosphäre offen ist, wenn der Transportmechanismus (8) die Substrate in den Verarbeitungstank (3) transportiert, und in einer geschlossenen Stellung, in der das Innere der Trocknungseinheit...</p>
申请公布号 DE112005000692(B4) 申请公布日期 2012.05.03
申请号 DE20051100692T 申请日期 2005.03.25
申请人 TOKYO ELECTRON LTD. 发明人 TOSHIMA, TAKAYUKI;SHINDO, NAOKI;YANO, HIROSHI;TSURUSAKI, KOTARO
分类号 H01L21/302;H01L21/00;H01L21/304;H01L21/677 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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