发明名称 用于衬底覆层的方法以及具有覆层的衬底
摘要 本发明建议一种用于衬底覆层的方法,其中利用等离子喷射将工艺射线(2)形式的原料(P)喷射到衬底(10;50)上,其中将原料(P)以最高20000Pa的低工艺压力注入到散焦工艺射线(2)的等离子里面并且在那里部分或全部熔化在液体或塑化的相(21)里面,其中这样调整用于工艺射线(2)的气流,使衬底(10;50)由于从液体或塑化的相(21)的离析在至少一个部位(101)覆层,该部位基于工艺射线(2)位于几何阴影里面。
申请公布号 CN102439193A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201080020029.6 申请日期 2010.05.07
申请人 苏舍美特科公司 发明人 R. J.达马尼;M.金德拉特
分类号 C23C4/12(2006.01)I 主分类号 C23C4/12(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 赵辛;杨国治
主权项 一种用于衬底覆层的方法,其中利用等离子喷射将工艺射线形式的原料(P)喷射到衬底(10;50)上,其中将原料(P)以最高20000Pa的低工艺压力注入到散焦工艺射线(2)的等离子里面并且在那里部分或全部熔化在液体或塑化的相(21)里面,其特征在于,所述原料(P)含有金属的母体或金属合金,使原料(P)在工艺射线(2)里面的温度低于金属母体或金属合金的沸点温度,并且这样调整用于工艺射线(2)的气流,使衬底(10;50)由于从液体或塑化的相(21)中的离析在至少一个部位(101)覆层,该部位基于工艺射线(2)位于几何阴影里面。
地址 瑞士沃伦