发明名称 | 制备高透过率氮化钛镀膜玻璃的方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种制备高透过率氮化钛镀膜玻璃的方法,步骤如下:将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室,反应室抽真空,通入N2清洗;将反应室加热至600℃,以惰性气体为载气将N2、NH3和预热到41.2℃的TiCl4通入反应室,在-0.02兆帕压力下,在玻璃基片上沉积氮化钛薄膜层后,将样品自然冷却至室温,然后在空气气氛下于400-600℃热处理15-120min。本发明制备的氮化钛薄膜致密均匀、与玻璃基片结合良好,薄膜不仅在近红外区和中远红外区均有高反射率,而且在可见光区具有较好的透过率,兼具阳光控制和低辐射性能,表现出优异的节能性能。本发明制备工艺简单,生产成本低,生产效率高。 | ||
申请公布号 | CN102432190A | 申请公布日期 | 2012.05.02 |
申请号 | CN201110282492.4 | 申请日期 | 2011.09.22 |
申请人 | 浙江大学 | 发明人 | 赵高凌;吴玲;张天播;韩高荣 |
分类号 | C03C17/22(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/22(2006.01)I |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 韩介梅 |
主权项 | 制备高透过率氮化钛镀膜玻璃的方法,其特征在于步骤如下:1)将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室,反应室抽真空,通入N2清洗反应室;2)反应室加热至600℃,将N2、NH3和预热到41.2℃的TiCl4以惰性气体为载气通入反应室,控制N2:NH3:TiCl4的流量比为300: 25: 3,保持反应室中的压力在-0.02兆帕,在玻璃基片上沉积氮化钛薄膜层,反应时间90s,然后关闭气路,再抽真空至-0.02兆帕,将样品自然冷却至室温,在空气气氛下于400‑600℃热处理15‑120min。 | ||
地址 | 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |