发明名称 | 制造薄闭合磁头的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种制造薄闭合读/写磁头诸如磁带磁头的方法。该方法提供闭合的改良的挠曲强度,从而减轻在磁头的制造期间的闭合破坏,并减小闭合厚度。在晶片上制造芯片阵列。利用接合到阵列的每个行的闭合条,封闭该阵列。闭合仅横跨行的长度,因此该闭合在处理期间不经受弯曲,并减轻由弯曲引起的破坏。将侧板接合到该阵列,以形成尺寸与现有技术的列相似的列。这允许本发明所制造的列经历利用现有工艺的附加处理。 | ||
申请公布号 | CN101377927B | 申请公布日期 | 2012.05.02 |
申请号 | CN200810214665.7 | 申请日期 | 2008.09.01 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | R·G·比斯克博恩;C·洛 |
分类号 | G11B5/265(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/265(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 于静;李峥 |
主权项 | 一种制造薄闭合磁头的方法,包括以下步骤:提供芯片的阵列;将闭合条附接到所述阵列;将所述闭合条研磨至预定的厚度;将侧板附接到所述阵列以形成列;以及研磨所述侧板的一面。 | ||
地址 | 美国纽约 |