发明名称 |
使用拉曼光谱法定量测量气相工艺中间体 |
摘要 |
提供了一种定量监测在化学工艺中气相材料的方法,其包括提供含一种或多种所关注的反应物气体的气体进料物流;使气体进料物流暴露于拉曼光谱装置的相干辐射;获得在气体进料物流内的每种气体组分的拉曼光谱信号;分析该光谱信号以确定每种气体组分的存在和浓度;和显示分析的结果。在一个实施方案中,该方法用于定量监测在生产高纯度硅工艺中的气相材料。 |
申请公布号 |
CN102439421A |
申请公布日期 |
2012.05.02 |
申请号 |
CN201080022229.5 |
申请日期 |
2010.05.11 |
申请人 |
陶氏康宁公司;赫姆洛克半导体公司 |
发明人 |
G·哈姆斯;D·克雷斯佐夫斯基;D·里奇特;E·利普;M·莫尔纳;M·皮奈特 |
分类号 |
G01N21/27(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I;C01B33/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/27(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
张钦 |
主权项 |
一种定量监测化学工艺中气相材料的方法,包括:提供含一种或多种所关注的反应物气体的气体进料物流;使所述气体进料物流暴露于拉曼光谱装置的相干辐射,所述拉曼光谱装置已通过如下步骤预先校准:在拉曼光谱中选择在所述气体进料物流内所关注的每种气体的峰,每个峰包括低频点和高频点;收集所关注的每种气体的已知浓度的拉曼光谱;计算所选峰的峰面积;在拉曼光谱中选择在所述拉曼光谱装置内的参考材料的参考峰,所述参考峰包括低频点和高频点;收集所述参考材料的拉曼光谱;计算所述参考材料的参考峰面积;确定由所选峰和所述参考峰的峰重叠引起的任何峰面积平差并除去所述参考峰对所述所选峰的峰面积的贡献;计算所关注的每种气体的所选峰面积与参考峰面积的比,以建立所关注的每种气体的校准常数;获得在所述进料物流内的每种气体组分的拉曼光谱信号;分析所述光谱信号以确定每种所述气体组分的存在和浓度;和显示所述分析的结果。 |
地址 |
美国密执安 |