喷淋头和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种喷淋头和等离子体处理装置，其能够抑制喷淋头的温度升高，并且能够使喷淋头的温度分布均匀，实现处理均匀性的提高。本发明的喷淋头以与用于载置基板的载置台相对的方式设置于在内部处理基板的腔室内，用于从设置在与所述载置台相对的相对面上的多个气体喷出孔向所述基板以喷淋状供给气体，在与相对面相反侧的面上立设有多个构成为棒状的热传导柱。

主权项

一种喷淋头，该喷淋头以与用于载置基板的载置台相对的方式设置于在内部处理所述基板的腔室内，用于从设置在与所述载置台相对的相对面上的多个喷出孔向所述基板以喷淋状供给气体，该喷淋头的特征在于：在与所述相对面相反侧的面上立设有多个构成为棒状的热传导柱，所述喷淋头包括多个贯通所述相对面和所述相反侧的面之间设置的、用于从所述相对面向所述相反侧的面进行排气的排气孔，从所述喷淋头的气体喷出孔供给的处理气体从所述排气孔被排出。