发明名称 |
مخزن أشرطة رقيقة بالسيليكون محسنة لإستعمالها في أجهزة فولطاضوئية |
摘要 |
La présente invention porte sur des procédés rentables de dépôt en ligne de couches métalliques semi-conductrices. Plus spécifiquement, la présente invention porte sur des procédés de dépôt pyrolytique en ligne pour le dépôt de couches métalliques semi-conductrices de type p, de type n et de type i dans les processus de production de verre flotté. En outre, la présente invention porte sur des procédés de dépôt pyrolytique en ligne pour la production de couches métalliques semi-conductrices de type p-(i-)n et n-(i-)p à jonction simple, double, triple et multiple. Ces couches métalliques semi-conductrices de type p, de type n et de type i sont utiles dans l'industrie photovoltaïque et intéressantes pour des fabricants de modules photovoltaïques en tant que produits « à valeur ajoutée. » |
申请公布号 |
MA33252(B1) |
申请公布日期 |
2012.05.02 |
申请号 |
MA20110034320 |
申请日期 |
2011.11.01 |
申请人 |
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC;ASAHI GLASS CO., LTD |
发明人 |
CORDING, CHRISTOPHER, R.;SPENCER, MATTHEW;MASUMO, KUNIO |
分类号 |
H01L31/00 |
主分类号 |
H01L31/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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