发明名称 氮化镓基紫外光发光二极管及其制造方法
摘要 一种氮化镓基紫外光发光二极管,包括基板、缓冲层及半导体发光结构,基板上形成若干阵列分布的凸起,相邻的凸起之间相互间隔形成一凹陷,基板于每一凹陷的底部形成一底面,缓冲层形成于基板的每一凹陷的底面,还包括横向生长增强层,横向生长增强层覆盖于基板及缓冲层之上,半导体发光结构位于横向生长增强层上。与现有技术相比,上述氮化镓基紫外光发光二极管的横向生长增强层内掺杂杂质,杂质提高形成横向生长增强层时的横向生长速度,进而提高横向生长增强层的生长品质,从而有助于最终形成具有较佳品质的氮化镓基紫外光发光二极管。本发明还公开一种氮化镓基紫外光发光二极管制造方法。
申请公布号 CN102437260A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201010297408.1 申请日期 2010.09.29
申请人 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 发明人 洪梓健;沈佳辉
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种氮化镓基紫外光发光二极管,包括基板、缓冲层及半导体发光结构,基板上形成若干阵列分布的凸起,相邻的凸起之间相互间隔形成一凹陷,基板于每一凹陷的底部形成一底面,缓冲层形成于基板的每一凹陷的底面,其特征在于:还包括横向生长增强层,横向生长增强层覆盖于基板及缓冲层之上,半导体发光结构位于横向生长增强层上。
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