发明名称 |
氮化镓基紫外光发光二极管及其制造方法 |
摘要 |
一种氮化镓基紫外光发光二极管,包括基板、缓冲层及半导体发光结构,基板上形成若干阵列分布的凸起,相邻的凸起之间相互间隔形成一凹陷,基板于每一凹陷的底部形成一底面,缓冲层形成于基板的每一凹陷的底面,还包括横向生长增强层,横向生长增强层覆盖于基板及缓冲层之上,半导体发光结构位于横向生长增强层上。与现有技术相比,上述氮化镓基紫外光发光二极管的横向生长增强层内掺杂杂质,杂质提高形成横向生长增强层时的横向生长速度,进而提高横向生长增强层的生长品质,从而有助于最终形成具有较佳品质的氮化镓基紫外光发光二极管。本发明还公开一种氮化镓基紫外光发光二极管制造方法。 |
申请公布号 |
CN102437260A |
申请公布日期 |
2012.05.02 |
申请号 |
CN201010297408.1 |
申请日期 |
2010.09.29 |
申请人 |
展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
发明人 |
洪梓健;沈佳辉 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种氮化镓基紫外光发光二极管,包括基板、缓冲层及半导体发光结构,基板上形成若干阵列分布的凸起,相邻的凸起之间相互间隔形成一凹陷,基板于每一凹陷的底部形成一底面,缓冲层形成于基板的每一凹陷的底面,其特征在于:还包括横向生长增强层,横向生长增强层覆盖于基板及缓冲层之上,半导体发光结构位于横向生长增强层上。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 |