发明名称 |
单晶纳米线阵列的合成方法 |
摘要 |
本发明提供了一种合成单晶纳米线阵列的方法,属于纳米材料的制备领域。该方法首先选择蒸汽压的前驱体,然后结合模板,采用气相沉积的方法,利用生长环境中的水蒸气或者其它具有湿度的载气完成反应,最终生长得到纳米线沉积到模板的孔道中,形成单晶纳米线阵列。本发明所制备的材料具有长度可调,直径可调,可以得到品质优良的单晶等诸多优点,解决了以往纳米线合成中易于被污染,长度、直径不可控,晶体质量差,所得纳米线产量稀少以及实验重复性差等缺点。 |
申请公布号 |
CN101985774B |
申请公布日期 |
2012.05.02 |
申请号 |
CN201010536975.8 |
申请日期 |
2010.11.09 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
吴凯;宫勇吉;余捷峰;黄斌;尚鉴 |
分类号 |
C30B25/04(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I |
主分类号 |
C30B25/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 |
代理人 |
贾晓玲 |
主权项 |
一种单晶纳米线阵列的合成方法,其步骤包括:A.制备模板;B.在瓷舟中放入前驱体和模板,所述前驱体为CuCl;C.将瓷舟放入化学气相沉积装置的石英管或马弗炉中;D.以10℃/min的速度升温至350‑550℃,并且在此温度保持5h;E.待温度自然冷却,去除模板,得到CuO单晶纳米线阵列。 |
地址 |
100871 北京市海淀区颐和园路5号 |