发明名称 一种真空中采用场致发射制造带电污染物的装置及方法
摘要 本发明涉及一种真空中采用场致发射制造带电污染物的装置和方法,属于真空技术应用领域。所述装置包括加速极真空过壁、放电极真空过壁、真空插头、真空法兰、放电极夹具、钨丝、加速极连接杆、抽真空系统、出气盖、加热台、固定架、真空室、加速极支撑台;加速极;紧固螺钉;陶瓷件;加速极栅网;电缆紧固螺钉,以及外围设备温控系统、放电极电源、加速极电源。所述方法如下:将样品装入样品容器固定后,对真空室抽真空,通过钨丝发射电子使电子与样品的出气气体产物相互作用,形成带电污染物。利用本方法可得到真空条件下,不同材料出气污染物在不同能量和密度电子作用下产生的带电污染物。
申请公布号 CN102431660A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201110320858.2 申请日期 2011.10.20
申请人 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 发明人 郭兴;王鹢;杨生胜;杨青;庄建宏;李存惠;薛玉雄;姚日剑;颜则东;孔风连
分类号 B64G7/00(2006.01)I 主分类号 B64G7/00(2006.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 杨志兵;李爱英
主权项 一种真空中采用场致发射制造带电污染物的装置,其特征在于:所述装置包括加速极真空过壁、放电极真空过壁、真空插头(3)、真空法兰(4)、放电极夹具(5)、钨丝(6)、加速极连接杆(7)、抽真空系统(8)、出气盖(9)、加热台(10)、固定架(11)、真空室(12)、加速极支撑台(13)、加速极(14)、陶瓷件(16)、加速极栅网(17)、电缆紧固螺钉(18),以及外围设备温控系统、放电极电源、加速极电源;其中,将真空法兰(4)作为真空室顶部,加速极真空过壁、放电极真空过壁、真空插头(3)分别安装于真空法兰(4)上;钨丝(6)底端插入放电极夹具(5),并将放电极夹具(5)固定到放电极真空过壁上;放电极夹具(5)和钨丝(6)在真空室(12)内部;钨丝(6)顶端为尖端;在真空室(12)内部设有固定架(11);在真空室(12)内部,加速极(14)为中间有凹槽的圆盘形,加速极(14)底部中心开有通孔,通孔上表面固定有加速极栅网(17);在加速极(14)边缘凸起上部固定有陶瓷件(16);电缆紧固螺钉(18)位于加速极(14)侧壁;在真空室(12)内部,加速极(14)安放在加速极支撑台(13)上,加速极支撑台(13)通过加速极连接杆(7)固定在固定架(11)上,在加速极支撑台(13)与加速极栅网(17)正对的位置开有一个通孔,钨丝(6)位于加速极(14)上方,且钨丝(6)的尖端与加速极(14)的通孔正对;在真空室(12)内部,加热台(10)位于加速极支撑台(13)下方,加热台(10)朝向钨丝(6)的一面安有出气盖(9),加热台(10)固定在固定架(11)上;抽真空系统(8)在真空室(12)外通过管道与真空室(12)连接;外围设备温控系统、放电极电源、加速极电源均位于真空室(12)外部;温控系统通过导线穿入真空插头(3)与加热台(10)连接;放电极电源通过导线穿入放电极真空过壁与钨丝(6)底端连接;加速极电源通过导线穿入加速极真空过壁与电缆紧固螺钉(18)连接;其中,所述钨丝(6)的尖端部分直径<10μm。
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