发明名称 用于投影显示的反射式硅基铁电液晶芯片及其制造方法
摘要 本发明涉及液晶芯片及制造,旨在提供一种用于投影显示的反射式硅基铁电液晶芯片及其制造方法。该芯片包括相互间隔且平行的玻璃基板和硅基板;在各自相对的侧面上设置导电电极ITO层和导电电极Al层;以环氧树脂密封连接玻璃基板和硅基板形成液晶盒,其内部注满铁电液晶;在所述导电电极ITO层和导电电极Al层上分别设置取向层,玻璃基板和硅基板之间由固定于两个取向层上的间隔子实现定位。其制造关键点在于对取向层沿不同方向对两个取向层进行摩擦处理。本发明通过设置独特的取向层并进行摩擦处理,提高了反射式硅基铁电液晶芯片排布的均匀性,提高了其响应时间,增加了对比度和亮度,具有高速响应度、高对比度和双稳态等优点。
申请公布号 CN102436108A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201110428397.0 申请日期 2011.12.20
申请人 浙江大学 发明人 林斌;郝丽芳;能芬
分类号 G02F1/141(2006.01)I 主分类号 G02F1/141(2006.01)I
代理机构 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人 金祺
主权项 一种用于投影显示的反射式硅基铁电液晶芯片,包括:相互间隔且平行的玻璃基板和硅基板;在各自相对的侧面上,在玻璃基板设置导电电极ITO层,在硅基板设置导电电极Al层;以环氧树脂密封连接玻璃基板和硅基板形成液晶盒,其内部注满铁电液晶;其特征在于,在所述导电电极ITO层和导电电极Al层上分别设置取向层,玻璃基板和硅基板之间由固定于两个取向层上的间隔子实现定位。
地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号