发明名称 透明导电性层叠体和透明触摸面板
摘要 本发明提供适合与液晶显示器等显示元件组合使用的透明导电性层叠体和具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。该透明导电性层叠体是在透明有机高分子基板(33)至少一侧的面上顺次层叠硬涂层(HC)(33h)、光学干涉层(32)、透明导电层(31)而成,并且满足以下条件:透明有机高分子基板和HC层的折射率n3和n3h满足下述式、即|n3-n3h|≤0.02;HC层的厚度是1μm~10μm;光学干涉层的厚度是5nm~500nm;透明导电性层的厚度是5nm~200nm;总光线透射率在85%以上;且b*值是-1.0以上且小于1.5。另外,形成具有这种透明导电性层叠体的透明触摸面板。
申请公布号 CN102438822A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201080006162.6 申请日期 2010.03.31
申请人 帝人株式会社;帝人化成株式会社 发明人 伊藤晴彦;池田幸纪
分类号 B32B7/02(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I 主分类号 B32B7/02(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 苗堃;赵曦
主权项 一种透明导电性层叠体,在透明有机高分子基板至少一侧的面上顺次层叠硬涂层、光学干涉层、透明导电层而成,且满足以下(A‑a)~(A‑f):(A‑a)所述透明有机高分子基板的折射率n3和所述硬涂层的折射率n3h满足下述式:|n3‑n3h|≤0.02,(A‑b)所述硬涂层的厚度是1μm~10μm,(A‑c)所述光学干涉层的厚度是5nm~500nm,(A‑d)所述透明导电性层的厚度是5nm~200nm,(A‑e)总光线透射率在85%以上,并且(A‑f)L*a*b*表色系的色度指数b*值是‑1.0以上且小于1.5。
地址 日本大阪府