发明名称 |
立式热处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种立式热处理装置,包括:立式的反应管,具有呈搁板状地保持多张基板且对基板进行热处理的基板保持件,在其周围配置有加热部;处理气体供给部,设在反应管的长度方向上,为了向保持在基板保持件的各基板供给处理气体,在与各基板相对应的高度位置形成有气体喷出口;排气口,形成在反应管的相对于反应管的中心来说与气体喷出口相反的一侧的位置,基板保持件具有:多个圆形状的保持板,每个保持板形成有多个基板载置区域,且各保持板彼此层叠;支柱,贯穿各保持板地在该各保持板的周向上设有多个,在反应管的径向上,支柱在使支柱的外侧部位处于与各保持板的外缘相同的位置或者比该位置靠内侧的位置贯穿各保持板,从而支承各保持板。 |
申请公布号 |
CN102437071A |
申请公布日期 |
2012.05.02 |
申请号 |
CN201110303058.X |
申请日期 |
2011.09.29 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
两角友一朗;佐藤泉 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种立式热处理装置,其中,该立式热处理装置包括:立式的反应管,其具有用于呈搁板状地保持多张基板且对基板进行热处理的基板保持件,在该立式的反应管的周围配置有加热部;处理气体供给部,其设在上述反应管的长度方向上,为了向保持在上述基板保持件的各基板供给处理气体,该处理气体供给部在与各基板相对应的高度位置形成有气体喷出口;排气口,其形成在上述反应管的相对于上述反应管的中心来说与上述气体喷出口相反的一侧的位置,上述基板保持件具有:多个圆形状的保持板,每个保持板形成有多个基板载置区域,并且各保持板彼此层叠;支柱,其贯穿各保持板地在该各保持板的周向上设有多个,在上述反应管的径向上,上述支柱在使上述支柱的外侧部位处于与上述各保持板的外缘相同的位置或者比该位置靠内侧的位置贯穿上述各保持板,从而支承上述各保持板。 |
地址 |
日本东京都 |