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发明名称 IMMERSION LITHOGRAPHIC COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1950610(B1) 申请公布日期 2012.05.02
申请号 EP20060822224 申请日期 2006.10.25
申请人 JSR CORPORATION 发明人 NAKAMURA, ATSUSHI;NAKAGAWA, HIROKI;NAKASHIMA, HIROMITSU;TSUJI, TAKAYUKI;DOUGAUCHI, HIROSHI;KOUNO, DAITA;NISHIMURA, YUKIO
分类号 G03F7/20;G03F7/11 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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