发明名称 基板之导电柱表面金属化处理方法
摘要 一种基板之导电柱表面金属化处理方法,其主要包含下列步骤:提供一基板,该基板系具有一上表面、一下表面、至少一连通该上表面及该下表面之导通孔及至少一导电柱,该导电柱系形成于该导通孔且具有一第一表面及一第二表面;形成一金属镀层于该基板之该上表面及该导电柱之该第一表面;对该金属镀层进行一电浆表面处理步骤,以使位于该导电柱之该第一表面之该金属镀层形成有复数个覆盖该第一表面之金属岛及复数个显露该第一表面之空间;形成一锡镀层于该金属镀层上,且该锡镀层系覆盖该金属镀层之该些金属岛并填充于该些空间;以及图案化该金属镀层与该锡镀层以显露出该基板之该上表面。
申请公布号 TWI363415 申请公布日期 2012.05.01
申请号 TW097132440 申请日期 2008.08.25
申请人 国立屏东科技大学 屏东县内埔乡学府路1号 发明人 卢威华
分类号 H01L23/522;C23C14/04 主分类号 H01L23/522
代理机构 代理人 张启威 高雄市鼓山区龙胜路68号
主权项
地址 屏东县内埔乡学府路1号