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发明名称
闸极结构的制造方法
摘要
一种闸极结构的制造方法。首先,提供一基底,基底上已形成闸极介电层,且闸极介电层上形成有至少一介电柱。然后,在基底上方顺应性形成多晶矽层,覆盖住介电柱与闸极介电层。之后,进行一蚀刻制程,移除部分的多晶矽层,以于介电柱的侧壁形成二多晶矽间隙壁。接着,在基底上形成蚀刻终止层,以及形成介电层以覆盖蚀刻终止层、二多晶矽间隙壁与介电柱。然后,移除部分的介电柱与介电层,使介电柱与介电层的表面低于多晶矽柱的表面。随后,进行一自行对准金属矽化物制程,使多晶矽柱转变成金属矽化物柱。
申请公布号
TWI363379
申请公布日期
2012.05.01
申请号
TW097108499
申请日期
2008.03.11
申请人
和舰科技(苏州)有限公司 中国
发明人
李秋德
分类号
H01L21/28;H01L21/027
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址
中国
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