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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zum Beschichten einer Oberfläche (21) eines Substrats (20). Die Vorrichtung umfasst eine Bearbeitungskammer (2) mit einer Partikelquelle (3) zur Erzeugung von Beschichtungspartikeln (19), die sich im Betrieb – neben der gewünschten Beschichtung der Substratoberfläche – auch auf der Innenwand (5) der Bearbeitungskammer (2) und auf darin angeordneten Abschirmvorrichtungen (4') ablagern. Mit zunehmender Betriebsdauer wächst die Schichtdicke dieser Ablagerungen (6) an, bis sie abplatzen, was zu einer Verschmutzung der zu beschichtenden Substratoberflächen führen kann. Um dies zu verhindern, sind an der Innenwand (5) der Bearbeitungskammer (2) und/oder an den Abschirmvorrichtungen (4') Abschirmgitter (10, 10') angeordnet, die verhindern, dass abplatzende Ablagerungen (6, 7) in den Innenraum (17) der Bearbeitungskammer (2) gelangen. Die Abschirmgitter (10, 10') bestehen vorzugsweise aus einem Streckmetall.
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