发明名称 Anordnung zur Einstrahlung eines Hochfrequenzfelds
摘要 Anordnung zur Einstrahlung eines Hochfrequenzfelds in ein Untersuchungsobjekt (3) bei einem Magnetresonanzgerät, – mit einer Lokalspuleneinheit, die ein Gehäuse (19, 21, GEH) aufweist, – bei dem an zumindest Gehäuseteil ein isolierendes, dielektrisches Material (23, 25, MAT) vorgesehen ist, um eine im Untersuchungsobjekt (3) auftretende Inhomogenität eines B1-Feldes passiv zu kompensieren, dadurch gekennzeichnet, – dass zur flexibel einstellbaren Kompensation am Gehäuseteil Einstellmittel angeordnet sind, die zur festen aber lösbaren Anordnung des isolierenden, dielektrischen Materials (23, 25, MAT) ausgestaltet sind, wobei das Einstellmittel zur positionsabhängigen Aufnahme des isolierenden, dielektrischen Materials (23, 25, MAT) ausgestaltet ist, wobei das Einstellmittel in einer Hohlwandung (HW) des Gehäuses (19, 21, GEH) angeordnet ist, wobei das isolierende dielektrische Material (23, 25, MAT) plattenförmig ausgebildet und in Form eines Stapels (STA) mit Hilfe des Einstellmittels angeordnet ist.
申请公布号 DE102007004812(B4) 申请公布日期 2012.04.26
申请号 DE200710004812 申请日期 2007.01.31
申请人 SIEMENS AG 发明人 LAZAR, RAZVAN, DR.;RENZ, WOLFGANG, DR.;SPECKNER, THORSTEN, DR.
分类号 G01R33/341;A61B5/055;G01R33/3415 主分类号 G01R33/341
代理机构 代理人
主权项
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