| 发明名称 | 处理基板的技术 | ||
| 摘要 | 本发明中揭示一种用于处理基板的改良技术。在一特定例示性实施例中，所述技术可使用用于处理基板的遮罩而达成。所述遮罩可并入至诸如离子植入系统的基板处理系统中。所述遮罩可包括：第一基座；以及多个指状物，其彼此间隔开以界定一或多个间隙。 | ||
| 申请公布号 | CN102428541A | 申请公布日期 | 2012.04.25 |
| 申请号 | CN201080019578.1 | 申请日期 | 2010.04.08 |
| 申请人 | 瓦里安半导体设备公司 | 发明人 | 凯文·M·丹尼尔斯;罗素·J·洛;班杰明·B·里欧登 |
| 分类号 | H01L21/265(2006.01)I;H01L21/266(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/265(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种用于处理基板的遮罩，所述遮罩包括：第一基座；以及多个指状物，其彼此间隔开以界定一或多个间隙。 | ||
| 地址 | 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号 | ||