| 发明名称 | TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>玻璃体的制造方法及热处理方法、TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>玻璃体、EUVL用光学基材 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种TiO2-SiO2玻璃体的制造方法，其包含如下工序：在将透明玻璃化后的TiO2-SiO2玻璃体的退火点设为T1(℃)时，以T1+400℃以上的温度将透明玻璃化后的玻璃体加热20小时以上的工序；和以10℃/小时以下的平均降温速度将该加热工序后的玻璃体从T1(℃)冷却至T1-400(℃)的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN102428046A | 申请公布日期 | 2012.04.25 |
| 申请号 | CN201080021581.7 | 申请日期 | 2010.05.11 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 小池章夫;三森乔宏;岩桥康臣;小川朝敬 |
| 分类号 | C03B32/00(2006.01)I;C03B20/00(2006.01)I;C03B25/00(2006.01)I;C03C3/06(2006.01)I;C03C3/076(2006.01)I;G03F1/22(2012.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | C03B32/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种TiO2‑SiO2玻璃体的制造方法，其中，包括如下工序：将透明玻璃化后的TiO2‑SiO2玻璃体的退火点设为T1(℃)时，以T1+400℃以上的温度将透明玻璃化后的玻璃体加热20小时以上；和以10℃/小时以下的平均降温速度将该加热工序后的玻璃体从T1(℃)冷却至T1‑400(℃)。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||