发明名称 |
蚀刻装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种蚀刻装置,包括一蚀刻槽和一对槽盖,所述一对槽盖设置于所述蚀刻槽的上方,所述一对槽盖分别和蚀刻槽的顶部两侧活动连接,还包括一对内盖,所述一对内盖设置于所述蚀刻槽的上方并位于所述一对槽盖的下方,且所述一对内盖分别和所述蚀刻槽的顶部两侧活动连接,所述一对内盖的相对端分别开设有一对相对的槽口。该蚀刻装置在使用时,当两只机械手臂夹持着带有晶圆的晶舟伸入蚀刻槽后,可以在不撤离机械手臂的前提下关闭内盖,所述相对的槽口在内盖关闭时组成两个供所述机械手臂穿越的通孔,关闭状态的内盖可以在晶圆蚀刻反应过程中防止蚀刻槽内的蚀刻液因蒸发而流失,确保蚀刻速率的稳定性,从而,有效提高产品良率。 |
申请公布号 |
CN202205723U |
申请公布日期 |
2012.04.25 |
申请号 |
CN201120335146.3 |
申请日期 |
2011.09.07 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
杨勇;杜亮;李强 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种蚀刻装置,包括一蚀刻槽和一对槽盖,所述一对槽盖设置于所述蚀刻槽的上方,所述一对槽盖分别和所述蚀刻槽的顶部两侧活动连接,其特征在于,还包括一对内盖,所述一对内盖设置于所述蚀刻槽的上方并位于所述一对槽盖的下方,且所述一对内盖分别和所述蚀刻槽的顶部两侧活动连接,所述一对内盖的相对端分别开设有一对相对的槽口。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |