发明名称 一种工艺控制方法及控制系统
摘要 本发明提供了一种工艺控制方法及控制系统,能够精确地实现工艺调节和控制,以提高工艺数据的利用效率。所述方法包括:预先建立工艺输入变量与输出变量之间的函数关系式,并确定所述函数关系式的系数;预置工艺基准输入变量值;利用所述函数关系式的系数对所述基准输入变量值进行调节,每次调节之后,进行如下控制步骤:利用调节后的基准输入变量值测量真实输出变量值;判断所述真实输出变量值与工艺控制目标之间的误差是否达到控制精度,如果达到,则结束所述调节;如果未达到,则继续对基准输入变量值进行调节,直到达到控制精度。本发明能定量的分析出工艺输入变量对输出变量的影响权重的大小,从而实现精确的工艺定量调节和反馈控制。
申请公布号 CN101556460B 申请公布日期 2012.04.25
申请号 CN200910084136.4 申请日期 2009.05.20
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 张善贵
分类号 G05B17/02(2006.01)I 主分类号 G05B17/02(2006.01)I
代理机构 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人 苏培华
主权项 1.一种工艺控制方法,其特征在于,用于对半导体工艺过程进行精确地定量调节与控制,所述方法包括:预先建立半导体工艺输入变量与半导体工艺输出变量之间的函数关系式,并确定所述函数关系式的系数;预置半导体工艺基准输入变量值;按照预置的输入变量调节次序,利用所述函数关系式的系数逐个对所述基准输入变量值进行调节,每次调节之后,进行如下控制步骤:利用调节后的基准输入变量值测量真实输出变量值;判断所述真实输出变量值与工艺控制目标之间的误差是否达到控制精度,如果达到,则结束所述调节;如果未达到,则继续对基准输入变量值进行调节,直到达到控制精度;对其中一个基准输入变量值进行调节,具体包括:设定该一个基准输入变量值为β<sub>i</sub>,调节后的该一个基准输入变量值为<img file="FDA0000115144890000011.GIF" wi="67" he="63" />对应该一个基准输入变量的关系式系数为a<sub>i</sub>,上一次调节得到的真实输出变量值为Y<sub>0</sub>,工艺控制目标为T,则:<maths num="0001"><![CDATA[<math><mrow><msub><mover><mi>&beta;</mi><mo>^</mo></mover><mi>i</mi></msub><mo>=</mo><msub><mi>&beta;</mi><mi>i</mi></msub><mo>+</mo><msub><mi>&Delta;&beta;</mi><mi>i</mi></msub><mo>=</mo><msub><mi>&beta;</mi><mi>i</mi></msub><mo>+</mo><mfrac><mrow><mi>T</mi><mo>-</mo><msub><mi>Y</mi><mn>0</mn></msub></mrow><msub><mi>a</mi><mi>i</mi></msub></mfrac><mo>.</mo></mrow></math>]]></maths>
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