发明名称 |
研磨垫 |
摘要 |
本实用新型涉及一种用于化学机械研磨的研磨垫,该种研磨垫,包括带有光学终点检测窗口的研磨垫基材、研磨垫基材背面的粘贴层以及粘贴层上的背纸,所述背纸包括第一部分背纸和第二部分背纸;更换研磨垫时,研磨垫放置在研磨机台上且研磨垫的光学终点检测窗口对准研磨机台上的信号窗口,揭去研磨垫上的第一部分背纸黏贴研磨垫固定在研磨机台上,再揭去研磨垫的第二部分背纸黏贴研磨垫,本实用新型具有结构简单,成本低、易更换,研磨垫的光学终点检测窗口准确对准化学机械研磨机台上的信号窗口,更换效果好,不产生偏移的优点。 |
申请公布号 |
CN202200167U |
申请公布日期 |
2012.04.25 |
申请号 |
CN201120233351.9 |
申请日期 |
2011.07.04 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
朱普磊;蒋莉;黎铭琦 |
分类号 |
B24B37/22(2012.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/22(2012.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种用于化学机械研磨的研磨垫,包括带有光学终点检测窗口的研磨垫基材、研磨垫基材背面的粘贴层以及粘贴层上的背纸,其特征在于:所述背纸包括第一部分背纸和第二部分背纸。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |