发明名称 |
半导体器件中的射频信号的传输结构及其形成方法 |
摘要 |
本发明的实施例提供了一种半导体器件中的射频信号的传输结构的形成方法,包括:提供绝缘体上硅衬底;形成位于部分所述绝缘体上硅衬底表面的导电层,所述导电层接地;形成覆盖所述绝缘体上硅衬底表面和导电层的互连金属层,所述互连金属层包括介质层和位于所述介质层内的金属层,且所述金属层位于所述导电层的正上方。本发明实施例的形成方法的工艺简单。相应的,本发明的实施例还提供了一种半导体器件中的射频信号的传输结构,采用所述传输结构传递射频信号,接收端接收到的射频信号的线性度好,信号的质量好。 |
申请公布号 |
CN102427021A |
申请公布日期 |
2012.04.25 |
申请号 |
CN201110298179.X |
申请日期 |
2011.09.28 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
刘巍;李乐;孔蔚然 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;H01L23/552(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种半导体器件中的射频信号的传输结构的形成方法,包括:提供绝缘体上硅衬底;其特征在于,还包括:形成位于部分所述绝缘体上硅衬底表面的导电层,所述导电层接地;形成覆盖所述绝缘体上硅衬底表面和导电层的互连金属层,所述互连金属层包括介质层和位于所述介质层内的金属层,且所述金属层位于所述导电层的正上方。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |