具有覆盖钇铝层的部件的处理腔

摘要

本发明具有覆盖钇铝层的部件的处理腔。基片处理腔部件是具有整体性表面层的结构，该层含有钇铝化合物。可以由含钇和铝构成的金属合金浇铸成该部件形状，并阳极化处理其表面以形成整体性阳极化表面层。该腔室部件也可以在预制金属模中用离子注入材料形成。该部件可以是腔壁、基片支座、基片传送器、供气设备、气体激发器和排气设备中的一个或多个。

主权项

一种用于基片处理腔的部件，其能够暴露于RF或微波激发气体中，所述部件包括：包含钇和铝的金属合金，所述金属合金具有包括钇‑铝氧化物的层，该钇‑铝氧化物具有穿过该层厚度的成分梯度，所述层能够暴露于所述基片处理腔中的所述RF或微波激发气体。