发明名称 Halbleiterbauelement mit verbessertem dynamischen Verhalten
摘要 Halbleiterbauelement, das aufweist: einen Halbleiterkörper (100) mit einer ersten Seite (101) und einer zweiten Seite (102), eine Driftzone (12), eine komplementär zu der Driftzone (12) dotierte erste Halbleiterzone (13), die sich in Richtung der ersten Seite (101) an die Driftzone (12) anschließt und eine zweite Halbleiterzone (11) des gleichen Leitungstyps wie die Driftzone (12), die sich in Richtung der zweiten Seite (102) an die Driftzone (12) anschließt, wenigstens zwei in dem Halbleiterkörper (100) angeordnete Gräben (20), die sich ausgehend von der ersten Seite (101) in einer vertikalen Richtung bis in die Driftzone (12) in den Halbleiterkörper (100) hineinerstrecken und die in einer lateralen Richtung des Halbleiterkörpers (100) beabstandet zueinander angeordnet sind, eine Feldelektrode (22), die in den wenigstens zwei Gräben (20) benachbart zu der Driftzone angeordnet ist, wobei die wenigstens zwei Gräben (20) in der vertikalen Richtung beabstandet zu der zweiten Halbleiterzone (11) angeordnet sind...
申请公布号 DE102007037858(B4) 申请公布日期 2012.04.19
申请号 DE20071037858 申请日期 2007.08.10
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 ZUNDEL, MARKUS, DR.;HIRLER, FRANZ, DR.
分类号 H01L29/78;H01L29/06;H01L29/739;H01L29/861 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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