发明名称 Método para depositar un material
摘要 <p>Método para depositar un material de una diana sobre una superficie de una muestra, método que comprende las etapas de: - Irradiar una superficie de la diana con un rayo láser o de electrones para generar un penacho de partículas del material diana; - Posicionar la muestra cerca del penacho, tal que las partículas del material diana se depositen sobre la superficie de la muestra; - Hacer girar la muestra alrededor de un eje de rotación que es perpendicular a la superficie de la muestra sobre las cual se depositan las partículas; - Mover el rayo láser o de electrones a lo largo de la superficie de la diana, tal que el penacho se mueva en una dirección radial en relación con el eje de rotación; Caracterizado por: - Pulsar el rayo láser o de electrones a una frecuencia variable</p>
申请公布号 ES2378906(T3) 申请公布日期 2012.04.19
申请号 ES20080014970T 申请日期 2008.08.25
申请人 SOLMATES B.V. 发明人 JANSSENS, JAN AMAUD;VAN DE EIJKEL, GERARD;DEKKERS, JAN MATTHIJN;BROEKMAAT, JOSKA JOHANNES;TE RIELE, PAUL
分类号 C23C14/28;C23C14/50 主分类号 C23C14/28
代理机构 代理人
主权项
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