Ein Verfahren zum Herstellen eines Verbundwafers mit einem Graphitkern und ein Verbundwafer mit einem Graphitkern
摘要
<p>Gemäß einer Ausführungsform enthält ein Verbundwafer ein Trägersubstrat mit einer Graphitschicht (236) und eine an dem Trägersubstrat angebrachte monokristalline Halbleiterschicht (220).</p>
