气体处理设备

摘要

本发明公开了一种可以独立于过程气体的供给流量操作的气体处理设备。该气体处理设备包括压缩机(1)、在压缩机(1)的下游侧的第一处理单元(2)；在第一处理单元(2)的下游侧的膨胀器(3)、在膨胀器(3)的下游侧的第二处理单元(4)和用于驱动压缩机(1)的驱动器，其中所述设备包括在压缩机(1)的入口处的第一压力计(10)、在第二处理单元(4)的出口处的第二压力计(11)、在第二处理单元(4)的出口与压缩机(1)的入口之间的再循环通道(24)、再循环通道(24)中的第一压力控制阀(12)、第二压力计(11)的下游侧处的第二压力控制阀(13)、用于测量驱动器的转速的转速计(14)和用于根据测量的压力和转速控制驱动器的转速、第一压力控制阀(12)或第二压力控制阀(13)中的至少一个的控制器。

主权项

一种气体处理设备，包括：压缩机，所述压缩机压缩过程气体；第一处理模块，所述第一处理模块设置在所述压缩机的下游并处理所述过程气体；膨胀器，所述膨胀器设置在所述第一处理模块的下游并膨胀所述过程气体以获得动力；第二处理模块，所述第二处理模块设置在所述膨胀器的下游并处理所述过程气体；驱动装置，所述驱动装置驱动所述压缩机；第一压力指示器，所述第一压力指示器设置在用于所述过程气体的所述压缩机的入口处并测量所述过程气体的压力；第二压力指示器，所述第二压力指示器设置在用于所述过程气体的第二处理模块的出口处并测量所述过程气体的压力；再循环流路，所述再循环流路连接到用于所述过程气体的第二处理模块的出口和用于所述过程气体的压缩机的入口并且使所述过程气体再循环；第一压力控制阀，所述第一压力控制阀设置在所述再循环流路中并调节将被再循环的所述过程气体的压力；第二压力控制阀，所述第二压力控制阀设置在所述第二压力指示器的下游并调节所述过程气体的压力；速度指示器，所述速度指示器测量所述驱动装置的转速；和控制装置，所述控制装置根据所述第一压力指示器和所述第二压力指示器测量的压力以及所述速度指示器测量的转速控制所述驱动装置的转速和所述第一压力控制阀以及所述第二压力控制阀中的至少一个。