发明名称 |
一种自动实现射频功率匹配的方法和系统 |
摘要 |
一种能够主动修正以适应等离子处理腔阻抗改变的系统,该系统不需要改变处理工艺菜单。该主动修正功能可以自动实现并且在加工过程中可以重复执行。本发明包括一个远端的生产控制器存储验证后的工艺菜单,本地的等离子处理器包括一个本地控制器,本地等离子处理器初始根据工艺菜单运行,直到控制系统发现新的能使等离子处理腔的射频功率最小化反的参数,新的参数存储并替换到本地控制器中,后续加工根据新的参数运行。对射频功率的自动调节可以避免对已有经过验证的工艺菜单的修改。自动调节可以采用频率匹配或者射频匹配网络调节来实现。 |
申请公布号 |
CN102420579A |
申请公布日期 |
2012.04.18 |
申请号 |
CN201110362541.5 |
申请日期 |
2011.11.16 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
刘鹏;杨伟;席朝晖 |
分类号 |
H03H7/38(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H03H7/38(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
一种运行一个处理系统的方法,所述处理系统包括等离子处理腔、本地控制器、远端生产控制器,所述方法包括:在所述远端生产控制器内存储一个处理工艺菜单,所述处理工艺菜单包括对所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值;用所述工艺菜单的设定值激发所述等离子处理腔;监测所述等离子处理腔的反射功率;改变所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值,以获得最小化的反射功率,以及,在获得最小化的反射功率时,存储新的射频匹配网络设定值到所述本地控制器,并且,继续根据所述处理工艺菜单运行该等离子处理腔,其中射频匹配网络设定值采用存储在所述本地控制器中的所述新的射频匹配网络设定值。 |
地址 |
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 |