发明名称 微细加工方法及微细加工装置
摘要 本发明提供微细加工方法及微细加工装置。根据一个实施方式,提供利用抗蚀剂的微细加工方法。按图案形成面的第一区域决定所需的抗蚀剂量。决定图案形成面整个区域的抗蚀剂总量。抗蚀剂总量除以抗蚀剂滴的容量。决定抗蚀剂滴的总数,对于该总数个抗蚀剂滴中的每个抗蚀剂滴,决定在图案形成面中的临时位置。按最接近的抗蚀剂滴分配各个第一区域。按第二区域重新划分图案形成面,该第二区域按抗蚀剂滴分配。按第二区域,决定一个抗蚀剂滴的容量除以对属于第二区域内的第一区域中的每个第一区域决定的需要的抗蚀剂量的总计而得到的值。在除法运算得到的值在图案形成面内的分布处于设为目标的范围内时,确定全部抗蚀剂滴的位置。
申请公布号 CN102419512A 申请公布日期 2012.04.18
申请号 CN201110226018.X 申请日期 2011.08.08
申请人 株式会社东芝 发明人 中川泰忠;河野拓也;米田郁男;幡野正之
分类号 G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I 主分类号 G03F7/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐冰冰;黄剑锋
主权项 一种微细加工方法,在图案形成面上二维状地配置多个抗蚀剂滴中的每个抗蚀剂滴,从所述抗蚀剂滴的上方按压形成有凹凸的模板,从而在所述图案形成面上形成抗蚀剂图案,其特征在于,包括:将所述图案形成面划分成多个比所述抗蚀剂滴中的一个抗蚀剂滴所占的面积小的第一区域,决定所述第一区域中的每个第一区域所需的抗蚀剂量的步骤;根据所述抗蚀剂量,决定所述图案形成面整个区域所需的抗蚀剂总量;所述抗蚀剂总量除以所述抗蚀剂滴中的所述一个抗蚀剂滴的容量,决定在所述图案形成面上配置的所述抗蚀剂滴的总数的步骤;将所述总数个所述抗蚀剂滴中的所述每个抗蚀剂滴配置在所述图案形成面上的临时位置决定为第一位置的步骤;将所述第一区域的所述每个第一区域分配到所述第一区域中的所述每个第一区域最接近的所述抗蚀剂滴中的一个抗蚀剂滴,将分配到所述抗蚀剂滴中的所述一个抗蚀剂滴的所述第一区域的集团设为多个第二区域中的一个第二区域,将所述图案形成面重新划分成所述第二区域;对于所述第二区域中的每个第二区域,决定所述抗蚀剂滴中的所述一个抗蚀剂滴的所述容量除以对属于所述第二区域中的所述每个第二区域的所述第一区域中的所述每个第一区域所需的所述抗蚀剂量的总计而得到的值;以及在所述除法运算得到的值在所述图案形成面内的分布处于设为目标的范围内时,将所述抗蚀剂滴的所述每个抗蚀剂滴的确定位置确定为第二位置,在所述除法运算得到的值在所述图案形成面内的分布未处于设为所述目标的范围内时,重复执行变更所述抗蚀剂滴中的至少一个抗蚀剂滴的所述临时位置的步骤、所述划分的步骤、决定所述除法运算得到的值的处理,直到所述分布收敛于设为所述目标的范围内为止。
地址 日本东京都