| 发明名称 |
Marker structure, lithographic projection apparatus, method for substrate alignment using such a structure, and substrate comprising such marker structure |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP2204697(A3) |
申请公布日期 |
2012.04.18 |
| 申请号 |
EP20100161132 |
申请日期 |
2003.09.19 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN HAREN, RICHARD;HINNEN, PAUL;LALBAHADOERSING, SANJAYSINGH;MEGENS, HENRICUS;VAN DER SCHAAR, MAURITS |
| 分类号 |
G01B11/00;G03F7/20;G01B11/02;G01B21/00;G02B5/18;G03F7/00;G03F9/00;G03F9/02;H01L21/027;H01L21/3205;H01L21/68;H01L23/52;H01S3/00 |
主分类号 |
G01B11/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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