| 发明名称 | 真空处理装置和真空处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够以高的精度进行压力调整的真空处理装置和真空处理方法和存储介质的技术。在其内部对被处理体进行真空处理的处理容器(20)，与另一端侧连接有真空排气单元(52)的8个排气通路(51)连接，设置与上述8个排气通路(51)之中的4个排气通路(51)对应，基于处理容器(20)内的压力检测值和压力设定值，自动控制排气通路(51)的开度的压力控制阀AV，与设置有该压力控制阀AV的排气通路(51)以外的排气通路(51)对应，设置将排气通路(51)的开度固定在被选择的开度的闸阀GV。 | ||
| 申请公布号 | CN101339897B | 申请公布日期 | 2012.04.18 |
| 申请号 | CN200810131931.X | 申请日期 | 2008.06.27 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 早川升;出口新悟 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;G05D7/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种真空处理装置，其特征在于，包括：在内部对被处理体进行真空处理的处理容器；一端侧与该处理容器连接，用于对该处理容器的内部进行真空排气的n个排气通路，其中，n为2以上的整数；与这些排气通路的另一端侧连接的真空排气单元；用于检测所述处理容器内的压力的压力检测单元；与所述n个排气通路之中的k个排气通路对应设置的、将排气通路的流导固定在被选择的值的半固定控制单元，其中，1≤k≤n‑1；和与设置有该半固定控制单元的排气通路以外的排气通路对应设置的、基于所述压力检测单元的检测值和压力设定值，自动控制排气通路的流导的常时可变控制单元。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||