半导体基板洗涤液以及半导体基板的洗涤方法

摘要

本发明开发一种洗涤液，其不蚀刻硅基板以及玻璃基板，且对由氧化铝粒子、二氧化硅粒子或者氮化硅粒子组成的粒子的除去能力高，还能够除去金属污染。本发明的半导体基板洗涤液组合物含有选自1分子中具有至少2个或更多个磺酸基的化合物、肌醇六磷酸和缩合磷酸化合物中的1种、2种或更多种、无机酸和水。本发明的半导体基板的洗涤方法包括第一工序和第二工序，其中，所述第一工序是用含有具有磺酸基的高分子化合物、肌醇六磷酸和缩合磷酸化合物中的1种、2种或更多种、无机酸和水的半导体基板洗涤液组合物洗涤半导体基板，所述第二工序是继第一工序之后，用纯水或溶解有臭氧气体的臭氧水或过氧化氢水洗涤所述半导体基板。

主权项

一种半导体基板洗涤液组合物，其含有：0.00001～10质量％的选自1分子中具有至少2个或更多个磺酸基的化合物以及肌醇六磷酸中的1种、2种或更多种、0.002～30质量％的下述无机酸中的1种、2种或更多种、以及水，其中，所述1分子中具有至少2个或更多个磺酸基的化合物选自萘磺酸和甲醛的缩合物及其盐、聚苯乙烯磺酸及其盐、聚乙烯磺酸及其盐、木素磺酸及其盐，所述无机酸选自盐酸、硫酸、硝酸、磷酸以及高氯酸。