发明名称 |
用于阻尼物体的方法、主动阻尼系统以及光刻设备 |
摘要 |
一种以两个或更多个自由度对物体进行阻尼的方法,包括步骤:在两个或更多个测量位置中每一个测量位置处测量位置参量;从所测量的位置参量为每个动态模式提取测量信号;将动态模式的测量信号供给与各个动态模式相关联的控制器单元,该控制器单元基于各自测量信号为每个动态模式提供输出信号;以及给两个或更多个致动器中的每一个提供控制信号,给每个致动器的控制信号基于一个或更多个控制器单元的输出信号。 |
申请公布号 |
CN101763124B |
申请公布日期 |
2012.04.18 |
申请号 |
CN200910262283.6 |
申请日期 |
2009.12.22 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
H·布特勒;M·W·M·范德维斯特 |
分类号 |
G05D19/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G05D19/02(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种使用多变量控制器的以两个或更多个自由度阻尼物体运动的方法,所述多变量控制器包括:位置参量测量系统,所述位置参量测量系统配置以在两个或更多个测量位置测量所述物体的位置参量;控制器,所述控制器配置以基于在两个或更多个测量位置处的已测量的位置参量将控制信号提供给安装到所述物体上的两个或更多个致动器,所述控制器包括:提取器,所述提取器被配置以针对至少一个自由度从在两个或更多个测量位置处所测量的位置参量提取用于物体的两个不同的动态模式的测量信号,以及用于每个动态模式的控制器单元,用于所述两个或更多个致动器的所述控制信号基于至少一个自由度的每一动态模式的控制器单元的输出信号,所述方法包括以下步骤:在所述两个或更多个测量位置中的每一个测量位置处测量所述位置参量;从所述两个或更多个测量位置处的所述已测量的位置参量提取每个动态模式的测量信号;将动态模式的所述测量信号供给与所述各个动态模式相关联的控制器中的控制器单元,所述控制器单元基于所述各个测量信号为每个动态模式提供输出信号;和将所述控制信号提供给所述两个或更多个致动器,所述控制信号基于一个或更多个控制器单元的输出信号。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |