<p>본 발명은 하기 화학식 I의 화합물, 또는 이의 입체이성질체 또는 약학적으로 허용되는 염, 화학식 I의 화합물을 포함하는 약학 조성물, 이러한 화합물의 제조 방법 및 사용 방법에 관한 것이다: 화학식 I상기 식에서, A, B, D, R, R, R및 R는 본원에 정의된 바와 같다.</p>
申请公布号
KR20120034729(A)
申请公布日期
2012.04.12
申请号
KR20127000759
申请日期
2010.06.10
申请人
F. HOFFMANN-LA ROCHE AG
发明人
GOODACRE SIMON CHARLES;LAI YINGJIE;LIANG JUN;MAGNUSON STEVEN R.;ROBARGE KIRK D.;STANLEY MARK S.;TSUI VICKIE HSIAO WEI;WILLIAMS KAREN;ZHANG BIRONG;ZHOU AIHE
