| 摘要 |
本案在此所揭示的一种溅镀目标物包括：a)一具有目标物材料的目标物表面组件；b)一具有耦合表面及背表面的核心衬背组件，其中该耦合表面连接至该目标物表面组件；及(c)至少一表面积特性连接至或位于该核心衬背组件的背表面，其中该表面积特性增加该核心衬背组件的有效表面积。额外的溅镀目标物包含：a)一积体目标物表面组件及核心衬背组件，其中该表面组件及衬背组件包含相同的目标物材料或材料梯度；及b)至少一表面积特性位于该核心衬背组件或整合其中，其中该表面积特性增加该核心衬背组件的有效组件。另外本案所揭示溅镀目标物的形成方法包含：a)提供一包含表面材料的目标物表面组件；b)提供一包含衬背材料及具有耦合表面及背表面的核心衬背组件；c)提供至少一表面特性连接至或位于该核心衬背板的背表面，其中该表面积特性增加该核心衬背板的背表面或提供至少一表面积特性连接至或位于该核心衬背组件的耦合表面中，其中该表面积特性增加该核心衬背组件的有效表面积；及d)耦合该表面目标物材料至该核心衬背材料的耦合表面。 |
