| 摘要 |
一种下述通式(b1－8)所示之化合物、下述通式(b1－9)所示之化合物；光阻组成物，其特征为含有经由酸之作用而对硷显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其中，酸产生剂成份(B)为含有下述通式(b1－8)所示之化合物所形成之酸产生剂(B1)或下述通式(b1－9)所示之化合物所形成之酸产生剂(B1’)。式(b1－8)中，R401为酸解离性基，R41~R43各自独立为卤素原子、卤化烷基、烷基、乙醯基、烷氧基、羧基、或羟烷基，Q为2价之键结基或单键；n0为1~3之整数，n1~n3各自独立为0~3之整数，又，n0＋n1为5以下；X－为阴离子；式(b1－9)中，R402及R403各自独立为氢原子、烷基或卤化烷基，R404为烷基或卤化烷基，R403及R404亦可相互键结形成一个环构造；R41~R43、n0、n1~n3及X－系与式(b1－8)中之R41~R43、n0、n1~n3及X－为相同之内容。 |
