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发明名称
用于抛光多晶矽的化学机械抛光液
摘要
本发明揭露一种用于抛光多晶矽的化学机械抛光液,该抛光液包括研磨颗粒和水,其还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。本发明的抛光液是可以在硷性条件下较好地抛光多晶矽薄膜的新型的化学机械抛光液。并且还可以显着降低多晶矽的去除速率,调节多晶矽与二氧化矽的选择比,显着提高多晶矽的平坦化效率。
申请公布号
TWI361830
申请公布日期
2012.04.11
申请号
TW095137801
申请日期
2006.10.13
申请人
安集微电子有限公司 开曼群岛
发明人
荆建芬;王麟;杨春晓
分类号
C09K3/14;H01L21/304
主分类号
C09K3/14
代理机构
代理人
陶霖 台北市文山区景兴路202巷8号5楼
主权项
地址
开曼群岛
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