一种沉积工艺腔内的硅片传送装置

摘要

本实用新型公开了一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，硅片传送装置包括转轴和法兰，法兰通过固定组件固定在所述转轴上，还包括转轴隔离垫片，转轴隔离垫片放置在转轴和法兰之间，并通过固定组件固定在转轴和所述法兰间。该沉积工艺腔内的硅片传送装置可避免化学气侵蚀到法兰和转轴的表面直接接触，使得转轴与法兰不会因为等离子体的侵蚀而粘附在一起，拆卸时容易分离，拆卸时无需破坏法兰。因此极大的降低了法兰的更换频率，节省了大量的维护时间，提高了机台的利用率，同时避免转轴表面受到侵蚀损伤，延长了转轴的使用寿命。转轴隔离垫片采用不受等离子体侵蚀的聚四氟乙烯材质制成，成本低廉、更换频率低，且可以起到较突出的有益效果。

主权项

一种沉积工艺腔内的硅片传送装置，所述硅片传送装置包括转轴和法兰，所述法兰通过固定组件固定在所述转轴上，其特征在于，还包括转轴隔离垫片，所述转轴隔离垫片放置在所述转轴和所述法兰之间，并通过所述固定组件固定在所述转轴和所述法兰间。