含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法

摘要

本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。

主权项

一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒，其特征在于该复合磨粒为：a. 由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒，其中所述的抛光活性元素与氧化硅的摩尔比为1～20：100；所述的抛光活性元素为：铈、锆、铜、镍、钛、银或铁；b. 由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒，其中所述的抛光活性元素与氧化铝的摩尔比为1～20：100；所述的抛光活性元素为：铈、锆、铜、镍、钛、银或铁。