光提取结构、发光基板和图像显示装置的制造方法

摘要

本发明涉及光提取结构、发光基板和图像显示装置的制造方法。光提取结构可有效地提取从发光层发射的光。将捕获层形成于在基板上形成的第一半透明材料膜上。通过将粒子分散到分散介质中获得的分散液被涂敷到捕获层上。分散介质被挥发。将粒子沉积层形成于捕获层上。沉积层的最下层中的粒子以对于2维最密充填为93％或更大的填充率被捕获到捕获层中。未捕获的粒子被去除。通过使用捕获的粒子作为掩模来执行蚀刻。在第一半透明材料膜中形成凹部。在蚀刻之后保留的粒子和捕获层被去除。之后，用具有不同折射率的第二半透明材料嵌入凹部。

主权项

一种光提取结构的形成方法，包括：(a)将捕获层至少形成于由第一半透明材料制成的基板或膜上；(b)将其中粒子已被分散到分散介质中的分散液施加到捕获层上，使分散介质挥发，并且将粒子的沉积层形成于捕获层上；(c)将沉积层的最下层中的粒子嵌入捕获层中并捕获；(d)去除未在捕获层中捕获的粒子；(e)使用在捕获层中捕获的粒子作为掩模，去除捕获层和第一半透明材料的基板或膜的一部分，并且将多个凹部形成于第一半透明材料的基板或膜中；(f)在步骤(e)之后去除粒子和捕获层；以及(g)用其折射率与第一半透明材料的折射率不同的第二半透明材料嵌入在第一半透明材料的基板或膜中形成的所述多个凹部，其中，在步骤(c)中在捕获层中捕获的粒子的粒子填充率对于二维最密充填等于93％或更大。