发明名称 |
半导体发光元件制造方法与半导体发光元件 |
摘要 |
本发明提出一种半导体发光元件制造方法与半导体发光元件,上述元件包括磊晶结构、第一电极、功能结构以及第一开口构造,上述方法包括提供基板;在基板上形成磊晶结构,磊晶结构包括第一型掺杂层、发光区以及第二型掺杂层,该磊晶结构通过第一表面接触该基板;进行电极形成步骤,以在第一型掺杂层的第二表面上形成第一电极;进行功能结构形成步骤,通过原位形成方法在第一电极的上方形成功能结构;进行移除步骤,移除基板而露出磊晶结构,以形成暴露的磊晶结构;以及对于该暴露的磊晶结构进行蚀刻步骤,以便于进一步暴露出第一电极的至少部分表面。采用本发明半导体发光元件制造方法与半导体发光元件,可有效简化现有技术手段过于复杂的制程步骤。 |
申请公布号 |
CN102412349A |
申请公布日期 |
2012.04.11 |
申请号 |
CN201110167115.6 |
申请日期 |
2011.06.21 |
申请人 |
柏光照明股份有限公司;财团法人成大研究发展基金会 |
发明人 |
洪瑞华;卢怡安 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/02(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/36(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
上海波拓知识产权代理有限公司 31264 |
代理人 |
杨波 |
主权项 |
一种半导体发光元件制造方法,其特征是,所述半导体发光元件制造方法包括:提供基板;在所述基板上形成至少一组磊晶结构,所述磊晶结构包括第一型掺杂层、发光区以及第二型掺杂层,所述磊晶结构通过其第一表面接触该基板;进行电极形成步骤,以在所述第一型掺杂层的第二表面上形成第一电极;进行功能结构形成步骤,通过原位形成方法在所述第一电极的上方形成功能结构;进行移除步骤,移除所述基板而暴露出所述磊晶结构,以形成暴露的磊晶结构;以及对于所述暴露的磊晶结构进行蚀刻步骤,以便于进一步暴露出所述第一电极的至少部分表面。 |
地址 |
中国台湾台北市基隆路二段51号8楼之9 |