发明名称 双面卷对卷真空镀膜设备
摘要 一种双面卷对卷真空镀膜设备,适用于对一个成卷的基材作双面镀膜,并包含:一用于卷放该基材的放料装置、一第一镀膜装置、一第二镀膜装置,以及一个用于卷收该基材的收料装置。该第一镀膜装置用于在该基材的一第一面上镀膜,该第二镀膜装置用于在该基材的一相反于该第一面的第二面上镀膜。借助该第一镀膜装置及该第二镀膜装置的配合,能一次且连续地完成该基材的第一面及第二面的双面镀膜作业,使基材不须另外再从真空腔体中取出,因此能避免基材受到大气环境污染,本实用新型使镀着的薄膜具有良好质量,并且节省镀膜时间,提高产能。
申请公布号 CN202187062U 申请公布日期 2012.04.11
申请号 CN201120251884.X 申请日期 2011.07.15
申请人 迎辉科技股份有限公司 发明人 唐世杰;王启任
分类号 C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人 任永武;须一平
主权项 一种双面卷对卷真空镀膜设备,适用于在一个成卷的基材的相反的一个第一面与一个第二面上镀膜,并包含:一个用于卷放该基材的放料装置,以及一个位于该放料装置的下游的第一镀膜装置,其特征在于:该第一镀膜装置包括一个输送来自于该放料装置的基材的第一滚轮单元、一个用于干燥该基材的加热器、一个位于该加热器的下游并清洁该基材的第一面的第一清洁机构,以及一个位于该第一清洁机构的下游并在该基材的第一面镀膜的第一镀膜机构;该第一滚轮单元包括一个与该基材的第二面贴合并使该基材的第一面露出的第一转轮;该双面卷对卷真空镀膜设备还包含一个位于该第一镀膜装置的下游的第二镀膜装置,以及一个位于该第二镀膜装置的下游并用于卷收该基材的收料装置;该第二镀膜装置包括一个输送来自于该第一镀膜装置的基材的第二滚轮单元、一个清洁该基材的第二面的第二清洁机构,以及一个位于该第二清洁机构下游并在该基材的第二面镀膜的第二镀膜机构;该第二滚轮单元包括一个与该基材的第一面贴合并使该基材的第二面露出的第二转轮。
地址 中国台湾台南市安南区本田路二段391号