发明名称 用于平面显示器的化学气相沉积装置
摘要 本发明为一种用于平面显示器的化学气相沉积装置,包括:对平面显示器实施沉积加工的一反应室,一安装在反应室中的承载器,其举起且承载所述的平面显示器在其上表面,以及一位于所述的反应室外壁上的强制冷却部,通过冷却反应室的外壁来降低反应室内部的温度,强制冷却在沉积加工中被加热的承载器。因为承载器被强制冷却使得承载器的温度能在相当短的时间内降低至一适当值。所述的化学气相沉积装置的保养与维护时间能缩短,且化学气相沉积装置的生产力与运作效率增加,加工损失的产生减少,安装与保养/维修工作简单化,防止在反应室中产生粒子,及减轻承载器因为突然的热散失所造成的冲击,且防止承载器因为突然的温度不平衡而产生裂缝。
申请公布号 CN101298665B 申请公布日期 2012.04.11
申请号 CN200810094500.0 申请日期 2008.04.30
申请人 SFA股份有限公司 发明人 李相琝;张祥来
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人 孙皓晨
主权项 一种用于平面显示器的化学气相沉积装置,其特征在于:包含:一反应室,其用以对平面显示器实施沉积加工,所述反应室包含一上反应室以及一下反应室,该上反应室具有用来清除沉积加工中沉积物质的电极,该下反应室具有承载器及一上部,其中所述的上部是用来耦接上反应室;一承载器,其安装在反应室中,所述的承载器举起且承载所述的平面显示器在其上表面;以及一强制冷却部,是耦接至该下反应室后表面,以在沉积加工完成后,通过冷却反应室的外壁来降低反应室内部的温度,用以强制冷却在沉积加工中被加热的承载器。
地址 韩国忠清南道
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