发明名称 |
曝光机的光源装置 |
摘要 |
一种曝光机的光源装置,包含一外壳、一灯管,及一遮光模块,外壳包括一容置空间,及一使容置空间与外部连通的开口;灯管设置于容置空间内并可产生光线,灯管产生的光线能经由开口照射至外壳外;遮光模块设置于开口并包括一第一遮光区、多个位于第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于灯管位置的第二遮光区,及多个位于第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,第一遮光区位在第二遮光区外周围,且第二遮光区的遮光率大于第一遮光区的遮光率,借此,能提升光线照射在工作物件上的均匀度。 |
申请公布号 |
CN202189225U |
申请公布日期 |
2012.04.11 |
申请号 |
CN201120247953.X |
申请日期 |
2011.07.14 |
申请人 |
志圣科技(广州)有限公司 |
发明人 |
王俊元;陈立扬 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;F21V1/12(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 |
代理人 |
黄为 |
主权项 |
曝光机的光源装置,该光源装置包含一外壳及一灯管,该外壳包括一容置空间,及一使该容置空间与外部连通的开口,该灯管设置于该容置空间内并可产生光线,该灯管产生的光线能经由该开口照射至该外壳外;其特征在于:该光源装置还包含一遮光模块,该遮光模块设置于该开口并包括一第一遮光区、多个位于该第一遮光区内用以供光线穿过的第一透光部、一对应于该灯管位置的第二遮光区,及多个位于该第二遮光区内用以供光线穿过的第二透光部,该第一遮光区位在该第二遮光区外周围,且该第二遮光区的遮光率大于该第一遮光区的遮光率。 |
地址 |
510850 广东省广州市花都区狮岭镇利和路6号 |