发明名称 |
Mikromechanisches Substrat |
摘要 |
Es wird ein Mikromechanisches Substrat angegeben, das wenigstens zwei separate einkristalline Siliziumschichten aufweist und das in einem Teilbereich eine Membran aufweist, wobei die Dicke der Membran weniger als 20μμm beträgt und wobei die Membran einen Teil einer ersten der einkristallinen Siliziumschichten umfasst, weiterhin mit einem Beheizungselement, das ausgestaltet ist, in wenigstens einem Teil der Membran eine Temperatur von mehr als 650°C zu erzeugen, sowie mit wenigstens einer Diffusionssperrschicht zur Verminderung der Oxidation der ersten einkristallinen Siliziumschicht.
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申请公布号 |
DE102010041763(A1) |
申请公布日期 |
2012.04.05 |
申请号 |
DE20101041763 |
申请日期 |
2010.09.30 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
FLEISCHER, MAXIMILIAN, PROF.;FREUDENBERG, OLIVER;HEDLER, HARRY, DR.;SCHIEBER, MARKUS |
分类号 |
B81B3/00;B81C1/00 |
主分类号 |
B81B3/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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